S00300 - SEMI S3 - Safety Guideline for Process Liquid Heating Systems Revision:SEMI S3-0306 - Superseded シリコンエピタキシャルウェーハの中には，エピタキシャル層の下に埋め込み層が形成されているものがある。 本仕様はそのような埋め込み層付きのエピタキシャルウェーハの特性について規定するものである。

シリコンエピタキシャルウェーハの中には，エピタキシャル層の下に埋め込み層が形成されているものがある。 本仕様はそのような埋め込み層付きのエピタキシャルウェーハの特性について規定するものである。

SEMI C28 — Specification and Guide for Hydrofluoric Acid

Process modules accept wafers at locations that may vary substantially from one module to another

3  This Standard provides a basis for specifying the material parameters of SI GaAs to support ordering agreements between suppliers and purchasers

but may be adapted for other applications in related industries

S00300 - SEMI S3 - Safety Guideline for Process Liquid Heating Systems Revision:SEMI S3-0306 - Superseded シリコンエピタキシャルウェーハの中には，エピタキシャル層の下に埋め込み層が形成されているものがある。 本仕様はそのような埋め込み層付きのエピタキシャルウェーハの特性について規定するものである。This Safety Guideline was technically approved by the Environmental Health & Safety Global Technical Committee. This edition was approved for publication by the global Audits and Reviews Subcommittee on May 16, 2017. Available at www. semiviews. org and www. semi. org in October 2017; originally published in 1991; previously published December 2011. E This Standard was editorially modified in make corrections that were approved outside of the normal